Patent- und Gebrauchsmusterverletzung
ISBN:
978-3-7321-0739-1
Auflage:
überarb. Aufl.
Verlag:
Hagener Wissenschaftsverlag
Land des Verlags:
Deutschland
Erscheinungsdatum:
30.12.2024
Format:
Softcover
Seitenanzahl:
118
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Patente und Gebrauchsmuster dienen dem Schutz technischer Erfindungen, indem sie deren Benutzung zunächst dem Schutzrechtsinhaber vorbehalten. Wie aber wirkt dieser Schutz im Einzelnen? Wie kann man das Patent benutzen? Unter welchen Voraussetzungen wird es verletzt und wann kann ein Rechtsinhaber eine Benutzungshandlung verbieten? Diese Fragen beantwortet das vorliegende Buch unter Rücksicht auf Theorie und Praxis mit vielen anschaulichen Beispielen und Hinweisen für die Rechtsdurchsetzung.
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Biografische Anmerkung
Nach ihrem Studium der Rechtswissenschaften an der Ruhr-Universität Bochum im Jahre 2001 absolvierte die Autorin ihr Rechtsreferendariat im Bezirk des Oberlandesgerichts Hamm, welches sie 2003 mit dem Zweiten Juristischen Staatsexamen abschloss. Sodann war die Autorin als Wissenschaftliche Mitarbeiterin am Lehrstuhl für Bürgerliches Recht, Deutsches und Europäisches Handels- und Wirtschaftsrecht, Immaterialgüter- und Medienrecht, Rechtsvergleichung der Ruhr-Universität Bochum sowie dem Institut für Medienrecht der Universität zu Köln beschäftigt. Im Jahre 2006 schloss sie an der Ruhr-Universität Bochum bei Prof. Dr. Karl Nikolaus Peifer ihre Promotion zum Thema „Die Zukunft der ARGE – zwischen Handelsgesellschaft und GbR“ ab. Von 2006 – 2018 war die Autorin als Rechtsanwältin tätig. Zugleich war sie von 2010-2014 an der Fern-Universität Hagen als Mitarbeiterin am Lehrstuhl für Bürgerliches Recht, Wirtschaftsrecht, Gewerblicher Rechtsschutz, Urheberrecht und Zivilprozessrecht bei Prof. Dr. Barbara Völzmann-Sti
